Atomic Layer Deposition for Semiconductors - Cheol Seong Hwang - 書籍 - Springer-Verlag New York Inc. - 9781461480532 - 2013年10月19日
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Cheol Seong Hwang
Atomic Layer Deposition for Semiconductors 2014 edition

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Offering thorough coverage of atomic layer deposition (ALD), this book moves from basic chemistry of ALD and modeling of processes to examine ALD in memory, logic devices and machines. Reviews history, operating principles and ALD processes for each device.

300 pages, 89 black & white illustrations, 81 colour illustrations, 3 black & white tables, 1 colour

メディア 書籍     Hardcover Book   (ハードカバー付きの本)
リリース済み 2013年10月19日
ISBN13 9781461480532
出版社 Springer-Verlag New York Inc.
ページ数 263
寸法 155 × 235 × 20 mm   ·   521 g
言語 英語  
編集者 Hwang, Cheol Seong

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