Cheol Seong Hwang
Atomic Layer Deposition for Semiconductors Cheol Seong Hwang Softcover reprint of the original 1st ed. 2014 edition

Name: Atomic Layer Deposition for Semiconductors
Price: 27492 JPY
Availability: OutOfStock
Author: Cheol Seong Hwang

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2014 edition

(2013) ¥ 27.492

Atomic Layer Deposition for Semiconductors

Cheol Seong Hwang

Softcover reprint of the original 1st ed. 2014 edition

This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines. The section on ALD for logic devices covers both front-end of the line processes and back-end of the line processes.

273 pages, 89 black & white illustrations, 81 colour illustrations, 3 black & white tables, 1 colour

メディア	書籍 Paperback Book (ソフトカバーで背表紙を接着した本)
リリース済み	2016年8月23日
ISBN13	9781489979438
出版社	Springer-Verlag New York Inc.
ページ数	263
寸法	234 × 155 × 18 mm · 482 g
言語	英語
編集者	Hwang, Cheol Seong