Atomic Layer Deposition for Semiconductors - - 書籍 - Springer-Verlag New York Inc. - 9781489979438 - 2016年8月23日
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Atomic Layer Deposition for Semiconductors Softcover reprint of the original 1st ed. 2014 edition

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This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines. The section on ALD for logic devices covers both front-end of the line processes and back-end of the line processes.

273 pages, 89 black & white illustrations, 81 colour illustrations, 3 black & white tables, 1 colour

メディア 書籍     Paperback Book   (ソフトカバーで背表紙を接着した本)
リリース済み 2016年8月23日
ISBN13 9781489979438
出版社 Springer-Verlag New York Inc.
ページ数 263
寸法 234 × 155 × 18 mm   ·   482 g
言語 英語  
編集者 Hwang, Cheol Seong

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