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Plasma Charging Damage Kin P. Cheung Softcover reprint of the original 1st ed. 2001 edition
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Plasma Charging Damage
Kin P. Cheung
In the 50 years since the invention of transistor, silicon integrated circuit (IC) technology has made astonishing advances. In state of the art silicon Ie manufacturing process, plasma is used in more than 20 different critical steps.
364 pages, biography
| メディア | 書籍 Paperback Book (ソフトカバーで背表紙を接着した本) |
| リリース済み | 2012年8月30日 |
| ISBN13 | 9781447110620 |
| 出版社 | Springer London Ltd |
| ページ数 | 346 |
| 寸法 | 157 × 234 × 19 mm · 522 g |
| 言語 | 英語 |