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Design a Slit HDP Semiconductor Plasma Dry Etcher Kung Linliu
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Design a Slit HDP Semiconductor Plasma Dry Etcher
Kung Linliu
In order to overcome the difficulties of the manufacturing procedures, the novel concept of slit shape HDP plasma dry etching of metal roller from semiconductor IC process is proposed and applied to a patent.
| メディア | 書籍 Paperback Book (ソフトカバーで背表紙を接着した本) |
| リリース済み | 2020年11月8日 |
| ISBN13 | 9798561298431 |
| ページ数 | 140 |
| 寸法 | 152 × 229 × 8 mm · 195 g |
| 言語 | 英語 |
