Guilei Wang
Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond - Springer Theses Guilei Wang 2019 edition

Name: Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond - Springer Theses
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Author: Guilei Wang

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Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond - Springer Theses

Guilei Wang

2019 edition

115 pages, 40 Tables, color; XVI, 115 p.

メディア	書籍 Paperback Book (ソフトカバーで背表紙を接着した本)
リリース済み	2020年10月2日
ISBN13	9789811500480
出版社	Springer Verlag, Singapore
ページ数	115
寸法	150 × 220 × 10 mm · 215 g