High-k Materials in Dynamic Random Access Memories (Dram): Atomic Scale Engineering of Hfo2-based Dielectrics for Future Dram Applications - Piotr Dudek - 書籍 - Südwestdeutscher Verlag für Hochschulsch - 9783838130187 - 2011年12月23日
カバー画像とタイトルが一致しない場合、正しいのはタイトルです

High-k Materials in Dynamic Random Access Memories (Dram): Atomic Scale Engineering of Hfo2-based Dielectrics for Future Dram Applications

価格
¥ 7.904
税抜

遠隔倉庫からの取り寄せ

発送予定日 年10月22日 - 年11月3日
Piotr Dudek の新しいリリースのお知らせを受け取る
iMusicのウィッシュリストに追加

まだ評価がありません

I would like to give you an outstanding opportunity to experience more about modern materials for Dynamic Random Access Memories. Therefore I give this book into your hands. You will find here a theory chapter focusing on DRAM physics as well as a deep description of deposition and characterization methods used in this work. Finally, you will discover how to engineer materials on an atomic scale and how to investigate those thin films.

メディア 書籍     Paperback Book   (ソフトカバーで背表紙を接着した本)
リリース済み 2011年12月23日
ISBN13 9783838130187
出版社 Südwestdeutscher Verlag für Hochschulsch
ページ数 112
寸法 150 × 7 × 226 mm   ·   176 g
言語 英語  

Piotr Dudekの他の作品を見る

同じ出版社からのその他の記事