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High-k Gate Dielectric Materials: Applications with Advanced Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors (MOSFETs) 第1 版
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High-k Gate Dielectric Materials: Applications with Advanced Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors (MOSFETs)
This volume explores and addresses the challenges of high-k gate dielectric materials, one of the major concerns in the evolving semiconductor industry and the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS).
246 pages, 18 Tables, black and white; 24 Illustrations, color; 79 Illustrations, black and white
| メディア | 書籍 Hardcover Book (ハードカバー付きの本) |
| リリース済み | 2020年12月18日 |
| ISBN13 | 9781771888431 |
| 出版社 | Apple Academic Press Inc. |
| ページ数 | 264 |
| 寸法 | 150 × 220 × 20 mm · 650 g |
| 言語 | 英語 |
| 編集者 | Baishya, Srimanta |
| 編集者 | Maity, Reshmi |
| 編集者 | Pratap Maity, Niladri |
