Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective - Press Monographs - Andreas Erdmann - 書籍 - SPIE Press - 9781510639010 - 2021年4月30日
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Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective - Press Monographs


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Introduces interested students with backgrounds in physics, optics, computational engineering, mathematics, chemistry, material science, nanotechnology, and other areas to the fascinating field of lithographic techniques for nanofabrication. It should also help senior engineers and managers expand their knowledge of alternative methods and applications.


374 pages

メディア 書籍     Paperback Book   (ソフトカバーで背表紙を接着した本)
リリース済み 2021年4月30日
ISBN13 9781510639010
出版社 SPIE Press
ページ数 374
寸法 255 × 178 × 24 mm   ·   682 g

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