Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications - Tommi Kaariainen - 書籍 - John Wiley & Sons Inc - 9781118062777 - 2013年5月28日
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Tommi Kaariainen
Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications 第2 版

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Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective.

272 pages

メディア 書籍     Hardcover Book   (ハードカバー付きの本)
リリース済み 2013年5月28日
ISBN13 9781118062777
出版社 John Wiley & Sons Inc
ページ数 272
寸法 240 × 164 × 25 mm   ·   582 g
言語 英語  

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