EUV Sources for Lithography - Press Monographs - Vivek Bakshi - 書籍 - SPIE Press - 9780819496256 - 2006年2月28日
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EUV Sources for Lithography - Press Monographs


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An authoritative reference book on EUV source technology. Topics range from a state-of-the-art overview and in-depth explanation of EUV source requirements, to fundamental atomic data and theoretical models of EUV sources based on discharge-produced plasmas and laser-produced plasmas, to a description of prominent DPP and LPP designs and other technologies for producing EUV radiation.


1094 pages

メディア 書籍     Paperback Book   (ソフトカバーで背表紙を接着した本)
リリース済み 2006年2月28日
ISBN13 9780819496256
出版社 SPIE Press
ページ数 1094
寸法 150 × 220 × 10 mm   ·   1,63 kg   (重量(概算))

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