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Sub-Half-Micron Lithography for ULSIs Katsumi Suzuki
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Sub-Half-Micron Lithography for ULSIs
Katsumi Suzuki
This book describes advanced techniques under development in Japan and elsewhere that represent the key to future semiconductor-device fabrication. Several important lithography methods, such as deep UV, X-ray, electron-beam, and focused ion-beam lithography are described in detail by experts. The principles underlying each of the techniques are illustrated at the beginning of each chapter.
344 pages, 103 b/w illus. 43 tables
| メディア | 書籍 Paperback Book (ソフトカバーで背表紙を接着した本) |
| リリース済み | 2005年11月10日 |
| ISBN13 | 9780521022347 |
| 出版社 | Cambridge University Press |
| ページ数 | 344 |
| 寸法 | 188 × 247 × 23 mm · 666 g |
| 言語 | 英語 |
| 編集者 | Matsui, Shinji (Nano-scale Science and Technology Group, Himeji Institute of Technology) |
| 編集者 | Ochiai, Yukinori (NEC Corporation, Tsukuba, Japan) |
| 編集者 | Suzuki, Katsumi (NEC Corporation, Tsukuba, Japan) |
